半导体温控

温控介质说明

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温控介质说明

发布日期:2019-06-20 作者: 点击:

温控介质-电,电加热器分布方式有斜插、竖插、斜插竖插交错等。该加热方式都配备全自动加热控制柜,可以实现单组或多组加热器工作,价格贵,但性能强,操作简单,具有温度显示、电机控制等自动装置。根据均匀分布在反应釜夹套底部的优质电加热器加热夹套中导热油,然后通过油传递热量的工作原理,使反应釜内物料达到工艺要求温度。该加热方式具有清洁卫生、污染小、升温快等特点。

  反应釜温控介质-水,温度要求不高时采用。加热系统分为敞开式和密闭式。水加热系统一般由循环泵、水槽、管道及控制阀门等部件所组成。

  反应釜温控介质-蒸汽,温度为100℃以下,搪玻璃反应釜用一个大气压以下的蒸汽来加热;在100~180℃之间,需要使用饱和蒸汽来对反应釜进行加热;温度要求更高时,就需要用高压蒸汽来对反应釜进行加热。

  反应釜温控介质-其他介质,如果需要在较高的温度下进行反应,而又要避免高压加热系统,这时可以采用其它介质来代替水加热和蒸汽加热来达到效果,可以更具不同的温度需要,选择不同的加热介质。

半导体温度控制器

本文网址:http://www.jxcc.net.cn/news/398.html

关键词:温控介质,温度显示,优质电加热器

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